Placeholder

Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы

Бесплатно!

Категория: .

Описание материала

Исследованы структура и фазовый состав катодных материалов системы Ti-Si, полученных спеканием смесей порошков титана, кремния и силицида титана Ti5Si3. Установлено, что спекание смесей Ti + Ti5Si3 позволяет получать качественные катодные материалы с содержанием кремния до 15 ат. %. Обнаружено, что в штатном режиме работы источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы возникают проблемы со стабильностью горения разряда, обусловленные возникновением дефектов на поверхности порошковых катодов. Использован способ подачи реакционного газа в вакуумную камеру через источник плазмы, что позволило добиться стабильной работы порошковых катодов при осаждении покрытий нитридов. В условиях использования высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложку получены покрытия системы Ti-Si-N. Иисследовано влияние параметров осаждения на состав, структуру и свойства покрытий. Определены условия, позволяющие синтезировать наноструктурные покрытия с высокой твердостью.

Характеристики

Качество

excellent

Том

13

2

Раздел

Ионно-плазменное оборудование и технологии

Типы файлов

pdf

Год издания

2015

Количество страниц

148-163

Язык

Russian

Автор(ы)

Васильев В.В., Гурских А.В., Криницын М.Г., Лучанинов А.А., Прибытков Г.А., Решетняк Е.Н., Стрельницкий В.Е., Толмачёва Г.Н.

Отзывы

Пока нет отзывов, хотели бы вы добавить свой отзыв?

Добавьте первый отзыв “Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы”

Введите текст вашего объявления о Купле/продаже!

*

*

*