Ника-2013 ПС

Описание материала

Установка для нанесения толстых металлических слоёв методом магнетронного распыления.

Назначение: нанесение толстых металлических слоёв методом термовакуумного испарения в магнетронном разряде на керамические подложки. Для обеспечения адгезии проводящего слоя предусмотрено напыление металлического (Cr, Ti, Ta) или диэлектрического подслоя. В последнем случае обеспечивается минимальные резистивные потери в СВЧ схемах.

Технологии: 

  • ионная очистка подложек;
  • магнетронное распыление металлических мишеней;
  • магнетронное распыление магнитных материалов (никель);
  • термовакуумное испарение в магнетронном разряде с высокой скоростью нанесения (до 1 мкм/мин на вращающуюся карусель, до 60 мкм полной толщины на всю загрузку);
  • напыление диэлектрического подслоя (опционально).

Состав:  

  1. ионный источник ИИ-400;
  2. магнетрон-400 для напыления металлического (Cr, Ti, Ta) или диэлектрического подслоя;
  3. магнетрон-400 для нанесения толстого слоя металла (Cu, Ag) методом термовакуумного испарения в магнетронном разряде;
  4. магнетрон-400 для нанесения защитного слоя Ni;
  5. барабан для одностороннего или двустороннего напыления;
  6. два канала подачи рабочих газов;
  7. нагреватель (опционально).

Характеристики

Форма технологического отсека

Cylindrical

Количество каналов подачи рабочего газа

2

Количество магнетронов

3

Толщина катода, мм

20

Максимальная мощность разряда, Вт

12000

Максимальная длина катода, мм

400

Минимальная длина катода, мм

400

Максимальная ширина катода, мм

80

Минимальная ширина катода, мм

80

Количество ионных источников

1

ООО “Лаборатория вакуумных технологий”

Отзывы

Пока нет отзывов, хотели бы вы добавить свой отзыв?

Добавьте первый отзыв “Ника-2013 ПС”

Введите текст вашего объявления о Купле/продаже!

*

*

*