Placeholder

Ионно-плазменное распыление при совместном горении высокочастотного и тлеющего разрядов

Бесплатно!

Описание материала

Предложен и реализован способ получения тонких пленок металлов, полупроводников и диэлектриков с использованием ионно-плазменного распыления при совместном горении высокочастотного и тлеющего разрядов. Зондовым методом исследованы параметры плазмы такого разряда.

Характеристики

Автор(ы)

Кучеренко Е.Т.

Язык

Russian

Типы файлов

pdf

Качество

excellent

Дата проведения

22-27 апреля 2002 г.

Название конференции

14-ый Международный симпозиум Тонкие пленки в оптике и электронике

место проведения

Украина Харьков

раздел конференции

Раздел III Оборудование для нанесения тонких пленок

Раздел

Ионно-плазменное оборудование и технологии

Отзывы

Пока нет отзывов, хотели бы вы добавить свой отзыв?

Добавьте первый отзыв “Ионно-плазменное распыление при совместном горении высокочастотного и тлеющего разрядов”