Placeholder

Интегральные характеристики разряда в инверсном магнетроне с газовым анодом, секционированными катодными узлами и осевыми потоками плазмы

Бесплатно!

Категория: .

Описание материала

Показана необходимость использования контролируемого метода нанесения покрытий для реализации принципа конструирования покрытий. Сделан вывод о перспективности использования для решения стоящей задачи установок на основе инверсной магнетронной распылительной системы с газовым анодом, секционированными катодными узлами и осевыми потоками плазмы. Представлены и проанализированы результаты измерения интегральных характеристик исследуемой распылительной си-стемы в зависимости от давления плазмообразующего газа и величины индукции магнитного поля в разрядном промежутке. Показано, что вольтамперные характеристики исследуемой распылительной системы и их изменение в зависимости от основных параметров, влияющих на ее работу, сходны по своему характеру с другими магнетронными распылительными системами. Даны рекомендации по выбору параметров ее работы.

Характеристики

Автор(ы)

Слюсарь Д.В.

Год издания

2014

2

Том

109

Язык

Russian

Типы файлов

pdf

Раздел

Ионно-плазменное оборудование и технологииФизика плазмы

Качество

excellent

Отзывы

Пока нет отзывов, хотели бы вы добавить свой отзыв?

Добавьте первый отзыв “Интегральные характеристики разряда в инверсном магнетроне с газовым анодом, секционированными катодными узлами и осевыми потоками плазмы”

Введите текст вашего объявления о Купле/продаже!

*

*

*