ВУП-5М-03

Free!

Product Description

Вакуумный универсальный пост ВУП-5М-03 предназначен для получения пленок из различных материалов с высокой производительностью, а также для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа или других аналитических приборов.

Вакуумный универсальный пост ВУП-5М-03 может быть применен для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях нayки и техники.

Основные достоинства и особенности

  • универсальность процесса позволяет получить пленки металлов, сплавов и полупроводников;
  • высокая скорость осаждения с возможностью ее регулирования в широких пределах;
  • сохраненние соотношения компонентов при распылении вещества сложного состава;
  • прибор позволяет получить высокую адгезию пленок и подложки;
  • возможность изменения структуры и свойств пленок;
  • возможность распыления нескольких материалов без разгерметизации объема;
  • небольшое тепловое воздействие на обрабатываемую структуру.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Предельное остаточное давление в рабочем объеме, Pa:
• с турбомолекулярным насосом
3×10-4
Диаметр мишени магнетрона, mm 40
Блок питания DC магнетрона:
• напряжение, V
• ток, mA
1100
300
Блок питания высоковольтный:
• напряжение, kV
• ток, mA
6
50
Блок термического испарения:
• первый испаритель, ток, A
• второй испаритель, ток, A
200
100
Температура нагрева подложки, °C 350
Скорость вращения подложки, rpm 5 — 15
Система напуска и стабилизации давления газа одноканальная (пьезонатекатель)
Размеры рабочего объема (диаметр×высота), mm 300×300
Масса прибора, kg, не более 420
Габаритные размеры, mm
• стойка аналитическая
• стойка электрическая
620×630×1600
620×630×1400
Электрическое питание, V 115 / 220
Потребляемая мощность, kVA 4,5

Additional Information

Maximum Electrical power consumption, W

4500

Supply Voltage, V

115, 220

Frequency of a current, Hz

50, 60

Input Phase

3

Ultimate pressure, Pa

3E-4

Type of high-vacuum pump

Turbo pump

High Vacuum Pump

ТМН-521

Number of high-vacuum pumps

1

Type of backing pump

Rotary Vane Pump

Backing pump

DUO 20

Number of backing pumps

1

Number of channels of a working gas

1

Number of magnetrons

3

Type of Magnetron

Balanced

Type of Magnetic System

Permanent Magnets

Diameter of the magnetron cathode, mm

40

Maximum discharge current of the magnetron, A

0,3

Number of resistive evaporators

2

Maximum current of resistive evaporator

100, 200

Form of the process chamber

Cylindrical

Number of electron beam evaporators

1

Maximum current of the electron beam evaporator, A

0,05

Minumum current of the electron beam evaporator, A

0

Diameter of the process chamber, mm

300

Height of the process chamber, mm

300

The volume of the process chamber, l

21,2

Weight, kg

420

Maximum bias voltage of the substrate, V

6000

Minimum bias voltage of the substrate, V

500

The maximum current of the substrate bias power supply, mA

50

Heating temperature of substrate, K

623

Temperature range maximum, °C

35

Temperature range minimum, °C

10

Types of files

djvu

Quality

good

Language

Russian

ННП “УКРРОСПРИБОР”

ОАО «Selmi»

Reviews

There are no reviews yet, would you like to submit yours?

Be the first to review “ВУП-5М-03”

Have an Ad? Submit it here!

*

*

*