ВУП-5М-02

Free!

Product Description

Вакуумный универсальный пост ВУП-5М-02 предназначен для получения пленок из различных материалов с высокой производительностью, а также для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа или других аналитических приборов.

Вакуумный универсальный пост ВУП-5М-02 может быть применен для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях нayки и техники.

Основные достоинства и особенности

  • универсальность процесса позволяет получить пленки металлов, сплавов и полупроводников;
  • высокая скорость осаждения с возможностью ее регулирования в широких пределах;
  • сохраненние соотношения компонентов при распылении вещества сложного состава;
  • прибор позволяет получить высокую адгезию пленок и подложки;
  • возможность изменения структуры и свойств пленок;
  • возможность распыления нескольких материалов без разгерметизации объема;
  • небольшое тепловое воздействие на обрабатываемую структуру.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Предельное остаточное давление в рабочем объеме, Pa:
• с турбомолекулярным насосом
3×10-4
Диаметр мишени магнетрона, mm 40
Блок питания DC магнетрона:
• напряжение, V
• ток, mA
1100
300
Блок питания высоковольтный:
• напряжение, kV
• ток, mA
6
50
Блок термического испарения:
• первый испаритель, ток, A
• второй испаритель, ток, A
200
100
Температура нагрева подложки, °C 350
Скорость вращения подложки, rpm 5 — 15
Система напуска и стабилизации давления газа одноканальная (пьезонатекатель)
Размеры рабочего объема (диаметр×высота), mm 300×300
Масса прибора, kg, не более 420
Габаритные размеры, mm
• стойка аналитическая
• стойка электрическая
620×630×1600
620×630×1400
Электрическое питание, V 380 / 220
Потребляемая мощность, kVA 4,5

Additional Information

Maximum Electrical power consumption, W

4500

Supply Voltage, V

220, 380

Frequency of a current, Hz

50

Input Phase

3

Ultimate pressure, Pa

3E-4

Type of high-vacuum pump

Turbo pump

Number of high-vacuum pumps

1

Backing pump

2НВР-5ДМ

Number of backing pumps

1

Type of backing pump

Rotary Vane Pump

Number of channels of a working gas

1

Number of magnetrons

3

Type of Magnetron

Balanced

Type of Magnetic System

Permanent Magnets

Diameter of the magnetron cathode, mm

40

Maximum discharge current of the magnetron, A

0,3

Number of resistive evaporators

2

Maximum current of resistive evaporator

100, 200

Number of electron beam evaporators

1

Maximum current of the electron beam evaporator, A

0,05

Minumum current of the electron beam evaporator, A

0

Form of the process chamber

Cylindrical

Diameter of the process chamber, mm

300

Height of the process chamber, mm

300

The volume of the process chamber, l

21,2

Weight, kg

380

Maximum bias voltage of the substrate, V

7000

Minimum bias voltage of the substrate, V

500

The maximum current of the substrate bias power supply, mA

50

Heating temperature of substrate, K

623

Temperature range maximum, °C

35

Temperature range minimum, °C

10

High Vacuum Pump

НВТ-340-028А, НВТ-340-028Б

Types of files

djvu

Quality

good

Language

Russian

ННП “УКРРОСПРИБОР”

ОАО «Selmi»

Reviews

There are no reviews yet, would you like to submit yours?

Be the first to review “ВУП-5М-02”

Have an Ad? Submit it here!

*

*

*