Placeholder

Влияние диффузионных барьеров на кинетику реакции твердофазной аморфизации в многослойных покрытиях Sс/W/Si/W

Бесплатно!

Описание материала

Исследовано влияние диффузионных барьеров на основе вольфрама на кинетику реакции аморфизации, протекающую в многослойных покрытиях Sc/W/Si/W при повышенных температурах. Обнаружено, что на начальных стадиях отжига происходит рост аморфного силицида скандия ScSi, а также увеличение толщины барьерных слоев в результате химического взаимодействия вольфрама и кремния. По мере завершения процессов силицидообразования в барьерных слоях их толщина стабилизируется, что приводит к смене параболического закона роста аморфного силицида скандия линейным.

Характеристики

Автор(ы)

Воронов Д.Л., Зубарев Е.Н., Кондратенко В.В., Пеньков А.В., Першин Ю.П.

Язык

Russian

Типы файлов

pdf

Качество

excellent

Дата проведения

22-27 апреля 2002 г.

Название конференции

14-ый Международный симпозиум Тонкие пленки в оптике и электронике

место проведения

Украина Харьков

раздел конференции

Раздел II Термодинамика образования, фазовые диаграммы

Раздел

Ионно-плазменное оборудование и технологии

Отзывы

Пока нет отзывов, хотели бы вы добавить свой отзыв?

Добавьте первый отзыв “Влияние диффузионных барьеров на кинетику реакции твердофазной аморфизации в многослойных покрытиях Sс/W/Si/W”