Placeholder

Вакуумный универсальный пост ВН-2000

Product Description

ВН-2000 предназначен для нанесения пленок из различных материалов с высокой производительностью различными методами распыления в вакууме

Установка ВН-2000 предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно — лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.
Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 оС до 35 оС, относительной влажности не более 80% и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.
Электрическое питание установки должно соответствовать:
Напряжение, В 380/220;
Частота, Гц 50.
Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
Потребляемая мощность установки должна быть не более 3 кВ.

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ И ХАРАКТЕРИСТИКИ

3.1 Масса установки не более 350 кГ.
3.2 Установка обеспечивает предельное остаточное давление (в чистой и обезгаженной) рабочей камере 5•10-4 Па.
3.3 Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.
Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.
3.4 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки) регулируется от 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Предельное отклонение верхнего значения  0,3 кВ.
3.5 Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки) до 1 кВ.
3.6 Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока — 300 мА.
3.7 Максимальный ионный ток устройства ионного травления — 100 мA.
3.8 Установка обеспечивают откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2,0 •10 -3 Па за время не более 15 мин.
3.9 Ток пучка электронного испарителя регулируется от 0 мА до
200 мA.
3.10 Ток накала электронно-лучевого испарителя регулируется от 2 до 10А.
3.11 Ток источника резистивного испарителя 1 регулируется от 5 до 200А.
3.12 Ток источника резистивного испарителя 2 регулируется от 3 до 50А.

Additional Information

Maximum Electrical power consumption, W

5000

Supply Voltage, V

220, 380

Frequency of a current, Hz

50

Input Phase

3

Ultimate pressure, Pa

1,3E-4

Type of high-vacuum pump

Diffusion pump

Number of high-vacuum pumps

1

Backing pump

2НВР-5ДМ

Number of backing pumps

1

Type of backing pump

Rotary Vane Pump

Number of channels of a working gas

1

Type of Magnetron

Balanced

Type of Magnetic System

Permanent Magnets

Diameter of the magnetron cathode, mm

40

Maximum discharge current of the magnetron, A

0,3

Number of resistive evaporators

2

Maximum current of resistive evaporator

200, 50

Weight, kg

350

Maximum bias voltage of the substrate, V

7000

The maximum current of the substrate bias power supply, mA

100

Heating temperature of substrate, K

623

ННП “УКРРОСПРИБОР”

Reviews

There are no reviews yet, would you like to submit yours?

Be the first to review “Вакуумный универсальный пост ВН-2000”

Have an Ad? Submit it here!

*

*

*