Placeholder

Вакуумный универсальный пост ВН-2000

Описание материала

ВН-2000 предназначен для нанесения пленок из различных материалов с высокой производительностью различными методами распыления в вакууме

Установка ВН-2000 предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно — лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.
Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 оС до 35 оС, относительной влажности не более 80% и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.
Электрическое питание установки должно соответствовать:
Напряжение, В 380/220;
Частота, Гц 50.
Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
Потребляемая мощность установки должна быть не более 3 кВ.

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ И ХАРАКТЕРИСТИКИ

3.1 Масса установки не более 350 кГ.
3.2 Установка обеспечивает предельное остаточное давление (в чистой и обезгаженной) рабочей камере 5•10-4 Па.
3.3 Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.
Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.
3.4 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки) регулируется от 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Предельное отклонение верхнего значения  0,3 кВ.
3.5 Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки) до 1 кВ.
3.6 Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока — 300 мА.
3.7 Максимальный ионный ток устройства ионного травления — 100 мA.
3.8 Установка обеспечивают откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2,0 •10 -3 Па за время не более 15 мин.
3.9 Ток пучка электронного испарителя регулируется от 0 мА до
200 мA.
3.10 Ток накала электронно-лучевого испарителя регулируется от 2 до 10А.
3.11 Ток источника резистивного испарителя 1 регулируется от 5 до 200А.
3.12 Ток источника резистивного испарителя 2 регулируется от 3 до 50А.

Характеристики

Максимальная потребляемая электрическая мощность, Вт

5000

Напряжение питания, В

220, 380

Частота тока, Гц

50

Количество фаз входного напряжения

3

Предельное давление, Па

1,3E-4

Тип высоковакуумного насоса

Diffusion pump

Количество высоковакуумных насосов

1

Форвакуумный насос

2НВР-5ДМ

Количество форвакуумных насосов

1

Тип форвакуумного насоса

Rotary Vane Pump

Количество каналов подачи рабочего газа

1

Тип магнетрона

Balanced

Тип магнитной системы

Постоянные магниты

Диаметр катода магнетрона, мм

40

Максимальный ток разряда магнетрона, А

0,3

Количество резистивных испарителей

2

Максимальный ток резистивного испарителя

200, 50

Вес, кг

350

Максимальное напряжение смещения подложки,В

7000

Максимальный ток источника питания смещения подложки, mА

100

Температура нагрева подложки, К

623

ННП “УКРРОСПРИБОР”

Отзывы

Пока нет отзывов, хотели бы вы добавить свой отзыв?

Добавьте первый отзыв “Вакуумный универсальный пост ВН-2000”

Введите текст вашего объявления о Купле/продаже!

*

*

*

Связанные материалы…