Вакуумный напылительный пост ВН-2000-08

Product Description

Установка ВН-2000 (-08), как и ее аналог ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно-лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

3.1 Масса установки не более 350 кГ.
3.2 Габаритные размеры установки:
— стойка аналитическая 470мм х 540мм х 1600мм,
— стойка электрическая 610мм х 630мм х 1670мм.
3.3 Установка обеспечивает предельное остаточное давление (в чистой и обезгаженной) рабочей камере 5•10-4 Па.
3.4 Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.
Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.
3.5 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки) регулируется от 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Предельное отклонение верхнего значения 0,3 кВ.
3.7 Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки) до 1 кВ.
3.8 Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока — 300 мА.
3.9 Максимальный ионный ток устройства ионного травления — 100 мA.
3.10 Установка обеспечивают откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2,0•10 -3 Па за время не более 15 мин.
3.11 Ток пучка электронного испарителя регулируется от 0 мА до
200 мA.

3.12 Ток накала электронно-лучевого испарителя регулируется от 2 до 10А.

3.13 Ток источника резистивного испарителя 1 регулируется от 5 до 200А.

3.14 Ток источника резистивного испарителя 2 регулируется от 3 до 50А.

УСТРОЙСТВО И ПРИНЦИП РАБОТЫ УСТАНОВКИ

Установка выполнена в виде двух стоек – электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.
В электрической стойке размещены:
– блок распределительный;
– блок питания высоковольтный;
– блок трансформаторов;
– блок управления;
– пульт управления;
– блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.
Сохраняется возможность размещения блоков питания всех дополнительных аксессуаров, представленных на сайте.
В вакуумной стойке расположена вакуумная система.
Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:
– рабочий объем
– система напуска газа в рабочий объем;
– система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.
В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок.

Additional Information

Maximum Electrical power consumption, W

5000

Supply Voltage, V

220, 380

Frequency of a current, Hz

50

Input Phase

3

Ultimate pressure, Pa

5E-4

Type of high-vacuum pump

Turbo pump

Number of high-vacuum pumps

1

Backing pump

2НВР-5ДМ

Number of backing pumps

1

Type of backing pump

Rotary Vane Pump

Number of channels of a working gas

1

Type of Magnetron

Balanced

Type of Magnetic System

Permanent Magnets

Diameter of the magnetron cathode, mm

40

Maximum discharge current of the magnetron, A

0,3

Number of resistive evaporators

2

Maximum current of resistive evaporator

200, 50

Number of electron beam evaporators

1

Maximum current of the electron beam evaporator, A

0,2

Maximum bias voltage of the substrate, V

4000

The maximum current of the substrate bias power supply, mA

100

Heating temperature of substrate, K

623

Weight, kg

350

ННП “УКРРОСПРИБОР”

Reviews

There are no reviews yet, would you like to submit yours?

Be the first to review “Вакуумный напылительный пост ВН-2000-08”

Have an Ad? Submit it here!

*

*

*