Вакуумный напылительный пост ВН-2000-08

Описание материала

Установка ВН-2000 (-08), как и ее аналог ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно-лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

3.1 Масса установки не более 350 кГ.
3.2 Габаритные размеры установки:
— стойка аналитическая 470мм х 540мм х 1600мм,
— стойка электрическая 610мм х 630мм х 1670мм.
3.3 Установка обеспечивает предельное остаточное давление (в чистой и обезгаженной) рабочей камере 5•10-4 Па.
3.4 Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.
Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.
3.5 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки) регулируется от 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Предельное отклонение верхнего значения 0,3 кВ.
3.7 Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки) до 1 кВ.
3.8 Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока — 300 мА.
3.9 Максимальный ионный ток устройства ионного травления — 100 мA.
3.10 Установка обеспечивают откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2,0•10 -3 Па за время не более 15 мин.
3.11 Ток пучка электронного испарителя регулируется от 0 мА до
200 мA.

3.12 Ток накала электронно-лучевого испарителя регулируется от 2 до 10А.

3.13 Ток источника резистивного испарителя 1 регулируется от 5 до 200А.

3.14 Ток источника резистивного испарителя 2 регулируется от 3 до 50А.

УСТРОЙСТВО И ПРИНЦИП РАБОТЫ УСТАНОВКИ

Установка выполнена в виде двух стоек – электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.
В электрической стойке размещены:
– блок распределительный;
– блок питания высоковольтный;
– блок трансформаторов;
– блок управления;
– пульт управления;
– блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.
Сохраняется возможность размещения блоков питания всех дополнительных аксессуаров, представленных на сайте.
В вакуумной стойке расположена вакуумная система.
Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:
– рабочий объем
– система напуска газа в рабочий объем;
– система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.
В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок.

Характеристики

Максимальная потребляемая электрическая мощность, Вт

5000

Напряжение питания, В

220, 380

Частота тока, Гц

50

Количество фаз входного напряжения

3

Предельное давление, Па

5E-4

Тип высоковакуумного насоса

Turbo pump

Количество высоковакуумных насосов

1

Форвакуумный насос

2НВР-5ДМ

Количество форвакуумных насосов

1

Тип форвакуумного насоса

Rotary Vane Pump

Количество каналов подачи рабочего газа

1

Тип магнетрона

Balanced

Тип магнитной системы

Постоянные магниты

Диаметр катода магнетрона, мм

40

Максимальный ток разряда магнетрона, А

0,3

Количество резистивных испарителей

2

Максимальный ток резистивного испарителя

200, 50

Количество электронно-лучевых испарителей

1

Максимальный ток пучка электронного испарителя, А

0,2

Максимальное напряжение смещения подложки,В

4000

Максимальный ток источника питания смещения подложки, mА

100

Температура нагрева подложки, К

623

Вес, кг

350

ННП “УКРРОСПРИБОР”

Отзывы

Пока нет отзывов, хотели бы вы добавить свой отзыв?

Добавьте первый отзыв “Вакуумный напылительный пост ВН-2000-08”

Введите текст вашего объявления о Купле/продаже!

*

*

*